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AP シリーズのプラズマ処理システムは、プラズマ洗浄、表面活性化、密着性向上などの幅広い用途に適しています。これらのシステムは、半導体製造、マイクロエレクトロニクスのパッケージングと組み立て、医療およびライフサイエンス機器の製造などの分野に役立ちます。 AP シリーズは 4 つのバッチ プラズマ処理システムで構成され、研究開発環境からさまざまなレベルの生産に至るまで、顧客のニーズに対応する小型、中型、および大型の真空チャンバーのオプションを提供します。
● タッチスクリーンインターフェイスを備えた PLC コントローラーは、直感的なグラフィック表示とリアルタイムのプロセス監視を提供します。
● 柔軟なシェルフ設計により、ダイレクトまたはダウンストリームプラズマモードでさまざまなパーツキャリアの処理が可能
● 自動インピーダンスマッチング機能を備えた 13.56 MHz RF ジェネレーターにより、比類のないプロセス再現性を保証します。
● 独自のソフトウェア制御システムにより、統計的プロセス管理 (SPC) のためのプロセスおよび生産データが生成されます。
● バッチ形式の操作。各ユニットは完全に自己完結型であり、必要な床面積は最小限です
● ポンプ、チャンバー、制御電子機器、および 13.56 MHz RF 発生器はすべて単一の筐体内に収容されています。
AP-600 および AP-300 ベンチトップ プラズマ処理システム:AP-300 および AP-600 プラズマ処理システムは、完全に自己完結型で、最小限の作業台スペースしか必要としないベンチトップ ユニットです。システム シャーシには、プラズマ チャンバー、制御電子機器、13.56 MHz RF 発生器、および自動チャンバー マッチング ネットワーク (真空ポンプのみが外部に配置されています) が収容されています。メンテナンスアクセスは、連動ドアまたは取り外し可能なパネルを介して提供されます。プラズマ チャンバーは、マガジン、トレイ、ウェーハ ボートなどのさまざまな部品、アセンブリ、キャリアを収容するために、最大 7 つの取り外し可能で調整可能な電源付きまたは接地されたシェルフをサポートします。真空プラズマ処理システムは、アルゴン、酸素、水素、ヘリウム、フッ素化ガスなどの幅広いプロセス ガスに対応します。どちらのモデルにも、最適なガス制御を実現する 2 台のマスフローコントローラーが標準装備されており、オプションとして 2 台の追加ユニットを利用できます (合計で最大 4 台)。便利なユーティリティ接続により、検証プロセス中に必要な定期的な校正が容易になります。
AP-1000 プラズマ処理システム:AP-1000 プラットフォームでは、前面からの完全なアクセスが可能で、すべての内部コンポーネントの操作とメンテナンスが容易になります。ポンプはキャスター付きで取り外しも簡単です。プラズマ チャンバーは 11 ゲージのステンレス鋼とアルミニウムの固定具で作られており、優れた耐久性を保証します。チャンバーには、マガジン、トレイ、ウェーハ、ウェーハボートなどのさまざまな部品キャリアに対応する、取り外し可能で調整可能な複数の棚が付いています。オプションの HTP (ハイ スループット) シェルフを備えた AP-1000 プラズマ処理システムは、AP-1000 プラットフォームの信頼性とプロセス品質と、ノードソン MARCH の独自のシェルフ設計の実証済みの利点を組み合わせています。 AP-1000 HTP は、RF プラズマ内の反応性イオンの使用を最適化し、サイクル時間を短縮しながら処理の均一性を高めます。 AP-1000 HTP システムは、アルゴン、水素、ヘリウムなどのさまざまなプロセス ガスをサポートします。最適なガス制御を実現する 4 つのガスマスフローコントローラーが標準装備されています。スロット付きマガジンはチャンバー内で垂直に配置されます。
さらに、スロット付きマガジンをチャンバー内に垂直に配置できます。通常、各マガジンには少なくとも 20 個のリード フレームが保持されます。 AP-1000 プラズマ チャンバーは、マガジンのサイズに応じて、最大 12 個のマガジンを収容できます。
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